匀胶铬版光掩模基板 Photomask substrates
详细说明
匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。（匀胶铬版是掩膜版的基材）
特性：匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，
二、应用
产品广泛应用于半导体集成电路芯片制造、集成电路高密度引线框架、半导体元器件、面板显示器件、光学行业掩膜版、高密度印制线路板（PCB）行业等。