电子级四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘等方面被广泛应用。我院具备年产200吨CF4的生产能力，生产工艺及设备均处于国内ling 先地位，且以生产5N规格的产品为主。稳定销往韩国、台湾等地区。
产品特性：
四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。
黎明化工研究设计院有限责任公司前身为黎明化工研究院，始建于1965年，主要从事化工新材料和化学推进剂及其原材料的研究开发。为航空航天事业、国防建设和经济发展做出了贡献。
黎明化工研究设计院有限责任公司是家重点高新技术企业和省创新型企业，现有职工830余人，其中业技术人员约占54% 。公司总占地约45万平方米，建筑面积约17万平方米.
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