主流回收工艺分类 当前ITO靶材回收主要围绕铟元素提取展开,主要分为物理法、化学法和联合工艺三类: 熔炼过滤法(物理法) 通过高温熔炼结合筛网过滤实现铟与其他金属的分离。具体流程包括: 废铟块在625℃熔炼炉中熔化,利用铁/不锈钢筛网(30-40目)截留固态杂质铁、铝。 熔融铟通过重力滴落收集,残留物可二次熔炼提升回收率至72%。 该方法具有设备简单(图1)、周期短(单次处理≤60分钟)的优势,适用于含铟量70%-90%的废靶材。但需控温(±5℃),否则杂质金属可能熔化导致纯度下降至95%以下。
当前,铟的主要消费领域集中在ITO靶材上,其占比高达约70%。此外,半导体制造和合金领域的需求也不容忽视,两者合计占总消费量的24%,而其他研究领域则占据了6%。然而,由于ITO制造过程中靶材利用率仅达30%左右,导致大量剩余材料成为废料。加之电子废弃物的激增,铟回收已成为资源可持续利用不可或缺的一环。随着技术进步和应用需求的增长,ITO废料回收能有效减少原矿资源消耗,实现资源的可持续性发展。
ITO靶材,即铟锡氧化物靶材,主要由氧化铟(In₂O₃)和氧化锡(SnO₂)组成,其中氧化铟占比高达90%。ITO靶材因其优异的导电性和高透光性,成为液晶显示器(LCD)、触摸屏及太阳能电池等光电设备的理想材料。其晶体结构稳定,电导率高,确保了设备的运行。
ITO靶材回收流程 ITO靶材的回收流程通常包括以下几个步骤: 1. 收集与分类:将废旧ITO靶材进行收集,并根据其种类、纯度等进行分类。 2. 破碎与研磨:将分类后的靶材进行破碎和研磨,使其变成粉末状,便于后续处理。 3. 化学分离:采用化学方法将粉末中的铟、锡等元素进行有效分离。 4. 提纯与精炼:对分离出的铟、锡等元素进行提纯和精炼,得到高纯度的金属产品。 5. 再加工:将提纯后的金属产品加工成新的靶材或其他产品,实现资源的循环利用。